作為超純水(shui)(shui)(shui)處(chu)理系(xi)統服務商(shang)，RIGHTLEDER以膜(mo)分離、電除(chu)鹽等前(qian)沿的(de)(de)水(shui)(shui)(shui)處(chu)理技術(shu)開發及應(ying)用為主導(dao)，從事高(gao)(gao)精(jing)工(gong)業領域的(de)(de)純水(shui)(shui)(shui)、高(gao)(gao)純水(shui)(shui)(shui)及超純水(shui)(shui)(shui)的(de)(de)工(gong)藝(yi)設計、水(shui)(shui)(shui)處(chu)理系(xi)統的(de)(de)加(jia)(jia)工(gong)制(zhi)造、安裝調試及技術(shu)培訓等業務，根據用戶的(de)(de)不同需求量身(shen)定制(zhi)所(suo)需的(de)(de)加(jia)(jia)工(gong)、配制(zhi)、清洗、冷(leng)卻等各工(gong)藝(yi)環節用水(shui)(shui)(shui)的(de)(de)整體(ti)水(shui)(shui)(shui)系(xi)統解決方案。

系統(tong)性(xing)能穩定，其簡易性(xing)、自動化(hua)程度、生(sheng)產(chan)(chan)的可持續性(xing)完全滿足工(gong)業超純水的嚴格要求；提供配套的新機(ji)生(sheng)產(chan)(chan)、原機(ji)擴展、工(gong)藝(yi)改(gai)進、技(ji)術支持、運行(xing)維護(hu)等服務。

優(you)勢(shi)

● 超純水(shui)專(zhuan)用膜(mo)(mo)技術(shu)：采用膜(mo)(mo)表面高分子嫁(jia)接技術(shu)，不僅耐酸堿清洗、抗高污染，還(huan)可(ke)以加快(kuai)離子遷移速度，使產水(shui)TOC在20PPB以下(xia)；

● CDI新(xin)型電除鹽(yan)技術(shu)：采用新(xin)型均粒(li)樹脂包填充，雙流(liu)道錯流(liu)式高頻(pin)電子極板模式，有效提高脫鹽(yan)率；

● 超潔凈循環管道技術：采(cai)用(yong)新型材料對管道表面(mian)進行處理(li)，保(bao)證(zheng)系統運行無污(wu)染物析出，確保(bao)系統內(nei)無死水(shui)。

應用領域

● 電(dian)(dian)子半(ban)導體(ti)材料、器件、電(dian)(dian)解電(dian)(dian)容(rong)生產鋁箔(bo)及(ji)工作件的清洗用水(shui)；

● 顯(xian)像管、熒光(guang)屏生產、玻(bo)殼(ke)清洗(xi)、沉淀、濕潤、洗(xi)膜、管徑的(de)清洗(xi)用水(shui)；

● 液晶顯(xian)示屏(ping)生產過(guo)程中清(qing)洗所用的配液用水(shui)；

● 電子芯片(pian)生產(chan)中(zhong)，主要用于清(qing)洗硅晶(jing)元，另有少量用于藥(yao)液配(pei)制及切(qie)割用水；

● 集(ji)成電路生(sheng)產(chan)中清洗硅片所用的(de)高純水、高品質顯(xian)像管、熒光粉生(sheng)產(chan)用水；

● LCD、LED液晶顯(xian)(xian)示屏(ping)、PDP等離子顯(xian)(xian)示屏(ping)工藝用(yong)水；

● 光(guang)伏(fu)產(chan)品(pin)晶片切割制造及(ji)光(guang)電產(chan)品(pin)生產(chan)用水；

● 蓄電池、鋰電池、太陽能電池生(sheng)產(chan)用(yong)水；

● 電鍍(du)、涂裝、汽車、金屬及(ji)其他高端精(jing)密機械(xie)、精(jing)微(wei)產品表面處理用(yong)水；

● 金屬、化工、生物等領域研(yan)究所用水；

● 航(hang)天、天文、核電等(deng)軍工企業(ye)，科研單位生產加工用(yong)水。

執行(xing)標(biao)準

● GB/T11446.1-1997《中(zhong)國國家電子級水》

● JB/T7621-1994《電力半導體器件工藝用高純水》

● GB6682-2008《分析(xi)實驗室用水國家標準(zhun)》

● ASTM-D5127-2007《美國(guo)電子(zi)學和半導體工業用超純水(shui)標準》

● GMP認證標準